真空电镀膜层是由晶体或是晶粒组成的,晶体的大小、形状及其摆放方法决着镀层的布局特性。在各种不同的电镀液中,金属镀层的布局特性是不一样的,主要是堆积进程不同而造成的。开端电镀的基体资料外表要生成一些纤细的小点,这就是结晶核,跟着时刻不断添加,单个结晶数量的添加,并相互衔接成片,从而构成电镀层。联系力是指一个物体粘刭另一个物体上的规模与程度。若是一个镀层因机械力或是变形而发生掉落,或是被气体吹脱,被腐蚀而剥离,则电镀层缺少联系力。联系力为电堆积的重要性能指标,它同基体资料电镀前的外表状况有直接而重要的联系,联系力的好坏直接影响到电镀层的好坏。
若是基体资料外表存在很多油污、锈蚀等污物,电镀层不能直接和基体资料外表相联系,然后致使电镀层的逐渐起皮、掉落的现象,这就是电镀层与基体资料外表联系力不优良的原因。若是在电镀之前,电镀出产线上的基体资料外表有了很好的清洗,铝件,电镀层则会直接接触到基体材料的外表,铝件价格,并与之结实发生联系。基体资料的外表状况是影响掩盖才能的重要要素。电镀在电流密度较低的部位都能到达其分出电位的数值,因而实际掩盖才能比较好。基体资料的外表状况对电镀掩盖才能的影响很复杂。
镀金特点
镀金层外观为金黄色,具有很高的化学稳定性,只溶于王水及其他强酸,不溶于其它酸。金的原子价为一价和三价。一价金的标准电位φ°Au /Au为 1.68V,铝排,三价金的标准电位φ°Au3 /Au为 1.50V。对钢、铜、银及其合金基体而言,金镀层为阴极性镀层,镀层的孔隙影响其防护性能。
镀金层延展性好、易抛光、耐高温,具有很好的抗变色性能。在银层上镀金可以防止银的变色;金合金镀层可呈现多种色调,故常用作装饰性镀层,如镀首饰、钟表零件、艺术品等。
镀金具有较低的接触电阻、导电性能良好、易于焊接、耐腐蚀性强、并具有一定的耐磨性(指硬金),因而在精密仪器仪表、印制电路板、集成电路、管壳、电接点等方面有着广泛的应用。
电镀处理是整个生产过程中的主要工艺。根据零件的要求,有针对性选择某一种或几种单金属或合金电镀工艺对零件进行电镀或浸镀等加工,以达到防蚀、耐磨和美观的目的。电镀处理过程中所用的设备主要有各类固定槽、滚镀槽、挂具、吊篮等。
镀后处理是对零件进行抛光、出光、钝化、着色、干燥、封闭、去氢等工作,根据需要选用其中一种或数种工序使零件符合质量设备。镀后处理常用设备主要有磨光、抛光机,各类固定槽等。
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